加熱爐正常停爐熄火時(shí)，應(yīng)該（）。

再生器內(nèi)的O2要嚴(yán)格控制≯（），O2過量又會(huì)在硫的燃燒過程中產(chǎn)生SO42-離子。

再生器要保持吸附劑料位在二級(jí)旋風(fēng)分離器料腿底部之上，以防止吸附劑（）。

當(dāng)再生器溫度接近最高允許操作溫度時(shí)，以下操作不當(dāng)?shù)氖牵ǎ?/p>

瓦斯、液化汽管線蒸汽吹掃時(shí)間為（）。

再生器接受器的蒸汽內(nèi)盤管起到冷卻的作用，它是將吸附劑被冷卻至低于（）℃目的是為再生后的吸附劑進(jìn)入還原器或卸劑做準(zhǔn)備。

裝置開工初期吸附劑的裝置填量（）正常值。

正常操作中，閉鎖料斗進(jìn)料后的實(shí)際料位較高，而料位的進(jìn)料設(shè)定值較低，其原因?yàn)椋ǎ?/p>

如果吸附劑再生不完全，吸附劑將載大量硫回到反應(yīng)器。超過一定時(shí)間，高載硫?qū)⒔档臀絼ǎ?，從而影響吸附劑?duì)原料脫硫的能力。

開工中再生系統(tǒng)升溫加熱200℃恒溫，是為了使再生系統(tǒng)內(nèi)（）用熱的再生空氣加熱蒸發(fā)掉。