A.單級式萃取器
B.脈沖篩板塔
C.填料萃取塔
D.轉(zhuǎn)盤萃取塔
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A.需濃溶液多
B.濃淡各半
C.淡溶液多
D.無法配制
A.努塞爾特準(zhǔn)數(shù)Nu
B.普蘭特準(zhǔn)數(shù)Pr
C.雷諾準(zhǔn)數(shù)Re
D.格拉斯霍夫準(zhǔn)數(shù)Gr
A.不變
B.增加
C.減小
D.不確定
A.活性炭
B.硅膠
C.活性氧化鋁
D.分子篩
A.O℃
B.25℃
C.環(huán)境溫度
D.可選取任何溫度,但在衡算系統(tǒng)內(nèi)應(yīng)統(tǒng)一
A.確定工藝方案,進(jìn)行工藝計(jì)算,提出主流程工藝流程圖(PFD)
B.提出必需的輔助系統(tǒng)和公用系統(tǒng)方案,并進(jìn)行初步的計(jì)算:提出初步的公用工程流程圖(UFD)
C.提出污染物排放及治理措施
D.負(fù)責(zé)裝置內(nèi)裝置正常安全運(yùn)行的安全系統(tǒng)設(shè)計(jì)
A.7
B.14
C.28
D.56
A.管道及儀表流程圖(PID)
B.確定管道壓力等級、編制管道數(shù)據(jù)表
C.提出設(shè)備設(shè)計(jì)溫度
D.劃分裝置危險(xiǎn)區(qū)域
A.努塞爾特準(zhǔn)數(shù)Nu
B.普蘭特準(zhǔn)數(shù)Pr
C.雷諾準(zhǔn)數(shù)Re
D.格拉斯霍夫準(zhǔn)數(shù)Gr
A.無形資產(chǎn)的出資不得超過企業(yè)注冊資金的200%
B.無形資產(chǎn)的出資不得超過企業(yè)流動(dòng)資金的20%
C.無形資產(chǎn)的出資不得超過工程項(xiàng)目總投資的20%
D.國家對采用高新技術(shù)成果的出資比例,有特別規(guī)定的除外
最新試題
臥式設(shè)備應(yīng)采用()支座。
標(biāo)注剖切位置時(shí),采用()短劃來表示。
容器受壓元件之間的焊接接頭中()接頭通常是受力最大的縱焊縫。
側(cè)平面的投影特性是()。
相貫是指()相交。
有回轉(zhuǎn)軸的機(jī)件適合采用()進(jìn)行剖切。
設(shè)備設(shè)計(jì)條件單主要包括()。
第三角畫法的三個(gè)視圖分別是()。
化工設(shè)備上的接管和附件通常采用()表達(dá)。
直線AB為一般位置直線,則()。