A.電離室法
B.膠片劑量?jī)x法
C.化學(xué)劑量計(jì)法
D.水模體測(cè)量法
E.半導(dǎo)體劑量?jī)x法
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你可能感興趣的試題
A.深度
B.射線能量
C.射線劑量率
D.照射野大小
E.源皮距離
A.X射線系統(tǒng)
B.劑量學(xué)系統(tǒng)
C.機(jī)械系統(tǒng)
D.光學(xué)系統(tǒng)
E.成像系統(tǒng)
A.通過(guò)韌致輻射轉(zhuǎn)移給物質(zhì)
B.特征輻射損失能量
C.通過(guò)相互作用將能量轉(zhuǎn)移給次級(jí)電子
D.帶電粒子的衰變轉(zhuǎn)移能量
E.次級(jí)電子通過(guò)原子激發(fā)或電離將能量轉(zhuǎn)移給介質(zhì)
A.桿效應(yīng)
B.飽和性
C.復(fù)合效應(yīng)
D.靈敏度
E.方向性
A.特定點(diǎn)相互對(duì)應(yīng)技術(shù)
B.直接或曲線標(biāo)志變換技術(shù)
C.曲面變換技術(shù)
D.體積變換技術(shù)
E.交互或變換技術(shù)
最新試題
LET=（）Kev/μm 是高低LET 射線的分界線。
半影為射野邊緣劑量隨離開(kāi)中心軸距離增加而急劇變化的范圍。
光電效應(yīng)時(shí)入射X（γ）光子的能量一部分轉(zhuǎn)化為次級(jí)電子動(dòng)能，另一部分為特征X 射線能量。
隨能量增大，光電效應(yīng)發(fā)生的概率迅速減小。
巴黎系統(tǒng)的插植規(guī)定所有的放射源的線比釋動(dòng)能率相等。
質(zhì)子束的優(yōu)勢(shì)在于布拉格峰形百分深度劑量分布。
等效射野指的是通過(guò)計(jì)算換算后的方形野。
質(zhì)量保證和質(zhì)量控制的簡(jiǎn)稱分別為QA、QC。
準(zhǔn)直器所產(chǎn)生的散射線對(duì)劑量的貢獻(xiàn)主要源于二級(jí)準(zhǔn)直器。
電磁掃描調(diào)強(qiáng)不僅具有X 射線光子的利用率高、治療時(shí)間短的優(yōu)點(diǎn)，而且可實(shí)現(xiàn)電子束、質(zhì)子束的調(diào)強(qiáng)治療。