判斷題還原耗氫量的統(tǒng)計(jì)值與理論耗氫量對(duì)照，相差不大于5%時(shí)可以認(rèn)為還原完全。

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2.多項(xiàng)選擇題低變催化劑還原介質(zhì)可以用（）。

A.Ar
B.N2
C.工藝氣
D.H2

3.單項(xiàng)選擇題低變催化劑還原結(jié)束的標(biāo)志為（）。

A.入口溫度提高到100攝氏度，催化劑各層經(jīng)歷反應(yīng)溫升后降至與入口溫度相等，出口氫含量達(dá)到2%，已無(wú)氫耗，實(shí)際氫耗量與理論氫耗量小于5%
B.入口溫度提高到100攝氏度，催化劑各層經(jīng)歷反應(yīng)溫升后降至與入口溫度相近，出口氫含量達(dá)到20%，已無(wú)氫耗，實(shí)際出水量與理論出水量相等
C.入口溫度提高到200攝氏度，催化劑各層經(jīng)歷反應(yīng)溫升后降至與入口溫度相近，出口氫含量達(dá)到20%，已無(wú)氫耗，實(shí)際氫耗量與理論氫耗量小于5%
D.入口溫度提高到200攝氏度，催化劑各層經(jīng)歷反應(yīng)溫升后降至與入口溫度相等，出口氫含量達(dá)到2%，已無(wú)氫耗，實(shí)際出水量與理論出水量相等

5.單項(xiàng)選擇題合成系統(tǒng)定期進(jìn)行排放的目的是（）。

A.降壓
B.排除系統(tǒng)中惰性氣體
C.降溫
D.提高循環(huán)氣流量