單項(xiàng)選擇題大焦點(diǎn)X 射線(xiàn)機(jī)與小焦點(diǎn)X 射線(xiàn)機(jī)相比，其缺點(diǎn)是（）。
A.射線(xiàn)穿透能力小
B.照相清晰度差
C.照相黑度不易控制
D.射線(xiàn)不集中，強(qiáng)度小
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1.單項(xiàng)選擇題在端角反射的兩次反射中，均為（），端角反射率為100%。
A.橫波反射
B.縱波反射
C.橫波全反射
D.縱波和橫波反射
2.單項(xiàng)選擇題有機(jī)溶劑揮發(fā)較快，顯像時(shí)間很短的是（）。
A.水基濕式顯像
B.水懸浮濕式顯像
C.非水基濕式顯像
D.水溶解濕式顯像
3.單項(xiàng)選擇題爬波對(duì)于檢測(cè)（）表面裂紋，靈敏度和分辨力均比表面波高。
A.焊件
B.堆焊層
C.管件
D.鋼板
4.單項(xiàng)選擇題在波束未擴(kuò)散區(qū)內(nèi)，對(duì)于薄板前幾次的（）相差無(wú)幾。
A.一次波
B.二次波
C.底波
D.雜波
5.單項(xiàng)選擇題磁粉探傷中，發(fā)現(xiàn)有疑問(wèn)磁痕，應(yīng)該（）。
A.全部重新檢驗(yàn)
B.提高標(biāo)準(zhǔn)重新檢驗(yàn)
C.超標(biāo)磁痕重新檢驗(yàn)
D.用其他方法重新檢驗(yàn)
最新試題
超聲檢測(cè)時(shí)對(duì)工件無(wú)腐蝕的耦合劑是（）。
題型：多項(xiàng)選擇題
對(duì)漏磁檢測(cè)原理描述正確的有（）。
題型：多項(xiàng)選擇題
潤(rùn)濕是受檢表面附著的氣體被滲透液體所取代的現(xiàn)象，發(fā)生潤(rùn)濕時(shí)（）。
題型：多項(xiàng)選擇題
滲透檢測(cè)時(shí)，滲入的滲透液有一些被截留在缺陷內(nèi)，將受檢部位置于合適的光源（發(fā)光強(qiáng)度足夠）下檢查時(shí)，下列說(shuō)法正確的有（）。
題型：多項(xiàng)選擇題
單晶體金屬特點(diǎn)有（）。
題型：多項(xiàng)選擇題
用雙晶探頭檢測(cè)時(shí)，為增加缺陷顯現(xiàn)次數(shù)和反射幅度，檢測(cè)細(xì)長(zhǎng)缺陷應(yīng)使探頭（）。
題型：多項(xiàng)選擇題
聚焦聲源發(fā)射的聲場(chǎng)特點(diǎn)是（）。
題型：多項(xiàng)選擇題
非熒光磁粉檢測(cè)時(shí)，可見(jiàn)光照度不小于1000lx，并應(yīng)避免（）。
題型：多項(xiàng)選擇題
采用橫波斜探頭在圓柱曲面外圓進(jìn)行周向檢測(cè)時(shí)，缺陷定位說(shuō)法正確的有（）。
題型：多項(xiàng)選擇題
與一次射線(xiàn)相比，散射線(xiàn)的（）。
題型：多項(xiàng)選擇題