A.集成電路布圖設(shè)計(jì)登記申請表
B.集成電路布圖設(shè)計(jì)的復(fù)制件或者圖樣
C.含有該集成電路布圖設(shè)計(jì)的集成電路樣品
D.集成電路布圖設(shè)計(jì)創(chuàng)作之初的構(gòu)思描述
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A.新穎性
B.特異性
C.一致性
D.單一性
E.穩(wěn)定性
A.申請
B.登記
C.變更
D.轉(zhuǎn)讓
E.許可
A.復(fù)議
B.公訴
C.罰款
D.自訴
E.拘留
A.擅自使用或偽造地理標(biāo)志名稱及專用標(biāo)志的行為
B.不符合地理標(biāo)志產(chǎn)品標(biāo)準(zhǔn)和管理規(guī)范要求而使用該地理標(biāo)志產(chǎn)品的名稱的行為
C.使用與專用標(biāo)志相近、易產(chǎn)生誤解的名稱或標(biāo)識(shí)及可能誤導(dǎo)消費(fèi)者的文字或圖案標(biāo)志，使消費(fèi)者將該產(chǎn)品誤認(rèn)為地理標(biāo)志保護(hù)產(chǎn)品的行為
D.按照有關(guān)規(guī)定申請使用地理標(biāo)志專用標(biāo)志
E.銷售假冒地理標(biāo)志產(chǎn)品的行為
A.使用該集體商標(biāo)、證明商標(biāo)的宗旨
B.使用該集體商標(biāo)、證明商標(biāo)的目的
C.使用該集體商標(biāo)、證明商標(biāo)的商品的特定品質(zhì)
D.使用該集體商標(biāo)、證明商標(biāo)的手續(xù)
E.使用該集體商標(biāo)、證明商標(biāo)的權(quán)利、義務(wù)
最新試題
下列對中國音樂著作權(quán)協(xié)會(huì)性質(zhì)的描述正確的是（）。
常見的核心專利分析方法有（）。
反向工程，是指第三人以合法技術(shù)手段取得載有商業(yè)秘密的產(chǎn)品，對其進(jìn)行（），從而還原出商業(yè)秘密中的技術(shù)信息。
下列屬于直接侵犯專利權(quán)行為的有（）。
在外觀設(shè)計(jì)新穎性判斷中，需要注意的內(nèi)容有（）。
下列對中國音樂著作權(quán)協(xié)會(huì)的運(yùn)行方式描述正確的是（）。
根據(jù)案例提供的信息，在進(jìn)入美國市場以后，甲公司可能遭遇到的海外專利糾紛有（）。
為了降低專利質(zhì)押的高成本和金融機(jī)構(gòu)面臨的高風(fēng)險(xiǎn)，促進(jìn)專利質(zhì)押活動(dòng)的開展，目前，在專利質(zhì)押實(shí)踐中，常見的風(fēng)險(xiǎn)控制機(jī)制有（）。
根據(jù)《集成電路條例》的規(guī)定，下列屬于集成電路布圖設(shè)計(jì)專有權(quán)法定撤銷情形的是（）。
下列針對侵犯著作權(quán)的行為說法正確的是（）。