A.端承樁勘探點(diǎn)間距10m,摩擦樁25m,抗拔樁25m
B.端承樁勘探點(diǎn)間距15m,摩擦樁25m,抗拔樁30m
C.端承樁勘探點(diǎn)間距20m,摩擦樁28m,抗拔樁32m
D.端承樁勘探點(diǎn)間距23m,摩擦樁35m,抗拔樁35m
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A.單棟高層建筑勘探點(diǎn)的布置應(yīng)滿足對(duì)地基均勻性的評(píng)價(jià)要求,且不應(yīng)少于4個(gè),對(duì)勘察等級(jí)為甲級(jí)的高層建筑,當(dāng)基礎(chǔ)寬度大于30m 時(shí),應(yīng)在中心點(diǎn)或電梯井、核心筒體部分布設(shè)勘探點(diǎn)
B.在花崗巖孤石發(fā)育區(qū)和巖溶發(fā)育地區(qū),勘探點(diǎn)間距宜小于10m或每柱不少于一個(gè)勘探點(diǎn)
C.同一建筑物范圍內(nèi)主要持力層或其下臥層地層界面坡度大于10%,且可能影響到基礎(chǔ)設(shè)計(jì)或施工方案選擇時(shí),應(yīng)加密勘探點(diǎn)間距查明地層界面起伏情況
D.控制性勘探點(diǎn)應(yīng)根據(jù)建筑物平面分布均勻布置,其數(shù)量不小于勘探點(diǎn)總數(shù)的1/3,高層建筑控制點(diǎn)數(shù)量不應(yīng)少于勘探點(diǎn)總數(shù)的1/2
A.5
B.6
C.7
D.8
A.勘探線應(yīng)垂直地貌單元、地質(zhì)構(gòu)造和地層界線布置
B.勘探深度可根據(jù)擬建物的工程特性、擬建場地的巖土工程條件、可能采用的基礎(chǔ)形式和潛在的基礎(chǔ)持力層等綜合確定
C.控制性勘探點(diǎn)宜占勘探點(diǎn)總數(shù)的1/5~1/3
D.取樣或原位測試勘探點(diǎn)的數(shù)量宜占勘探點(diǎn)總數(shù)的1/4~1/2
A.軟巖和極軟巖,應(yīng)判定是否具有可軟化性、膨脹性、崩解性等特殊性質(zhì)
B.極破碎巖體應(yīng)分析破碎的原因
C.應(yīng)判定開挖后是否會(huì)進(jìn)一步風(fēng)化、膨脹、遇水崩解等工程特性
D.地下洞室和邊坡工程應(yīng)劃分巖體結(jié)構(gòu)面的結(jié)構(gòu)類型
A.15
B.30
C.45
D.55
最新試題
采用樁基礎(chǔ),勘探深度應(yīng)大于預(yù)計(jì)樁端以下3倍~5倍設(shè)計(jì)樁徑,且不小于()m;對(duì)樁身設(shè)計(jì)直徑大于()mm,不應(yīng)小于5m。
邊坡工程應(yīng)采用動(dòng)態(tài)設(shè)計(jì)、信息化施工。應(yīng)對(duì)地下水動(dòng)態(tài)、支護(hù)結(jié)構(gòu)內(nèi)力與變形、()、()和坡體變形進(jìn)行監(jiān)測。
巖土工程勘察方法和勘察手段的選擇,應(yīng)在()和()的基礎(chǔ)上,根據(jù)工程類型、勘察階段、勘察等級(jí)、場地地質(zhì)條件、勘察手段的適宜性和收集的既有資料,采用綜合勘察方法查明建設(shè)場地的巖土工程條件。
巖石試樣應(yīng)填寫(),標(biāo)明上下方向。對(duì)進(jìn)行密度、含水量試驗(yàn)的巖石試樣,采取后應(yīng)擦干凈即刻();試樣標(biāo)簽可采用二維碼等數(shù)字化設(shè)備自動(dòng)打印和粘貼。
采取軟土試樣應(yīng)采用(),每一軟土層采取軟土試樣數(shù)量應(yīng)滿足()要求。
擬建場地或附近存在對(duì)工程安全有影響的巖溶、滑坡、危巖和崩塌、泥石流、采空區(qū)和活動(dòng)斷裂等不良地質(zhì)作用時(shí),應(yīng)進(jìn)行()。查明不良地質(zhì)作用類型、成因、規(guī)模和危害程度。提供治理所需的(),提出治理措施和監(jiān)測建議。
砂土應(yīng)描述顏色、礦物組成、()、顆粒形狀、黏粒含量、濕度、()等。
當(dāng)基礎(chǔ)持力層為基巖時(shí),應(yīng)對(duì)巖樣進(jìn)行()與()狀態(tài)下的單軸抗壓強(qiáng)度試驗(yàn),并提供極限抗壓強(qiáng)度和軟化系數(shù)。
巖溶地基的處理措施一般可采用()、跨蓋、()和排導(dǎo)等方法。
每個(gè)地貌單元應(yīng)布置勘探點(diǎn),在地貌單元交接部位和地層變化較大的地段,勘探點(diǎn)應(yīng)(),在地形平緩地區(qū),可按()布置勘探點(diǎn)。