新的平坦化方法有哪幾個(gè)？（）

進(jìn)行光刻工藝前的清洗步驟是（）。

碳納米管場(chǎng)效應(yīng)晶體管是未來晶體管發(fā)展趨勢(shì)之一。

CE定律發(fā)展面臨的問題包括（）。

注入損傷與注入離子的以下哪個(gè)參數(shù)無關(guān)？（）

摻雜后，退火的目的是（）。

光刻工藝對(duì)準(zhǔn)誤差包括（）。

摻雜后退火時(shí)間一般在（）。

封裝工藝中，銀漿固化的溫度為（）。

互連工藝中AL的制備可選用（）。