A、含硅化合物
B、含鋁化合物
C、堿
D、純氧
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A、金屬催化劑
B、酸、堿、鹽催化劑
C、金屬氧化(硫化)物催化劑
D、固體酸催化劑
A、WO3
B、Ni
C、Fe
D、Cu
A、金屬催化劑
B、酸、堿、鹽催化劑
C、金屬氧化(硫化)物催化劑
D、固體酸催化劑
A、AE
B、BE
C、CE
D、RE
A、陽(yáng)離子價(jià)數(shù)越高,半徑越小,活性越高
B、陽(yáng)離子價(jià)數(shù)越高,半徑越大,活性越高
C、陽(yáng)離子價(jià)數(shù)越低,半徑越小,活性越高
D、陽(yáng)離子價(jià)數(shù)越低,半徑越大,活性越高
最新試題
如液位儀表指示偏差較大時(shí),需對(duì)其零點(diǎn)進(jìn)行調(diào)校。()
為減少空冷系統(tǒng)的積垢,對(duì)反應(yīng)注水水質(zhì)中的銨、氧、氯化物等含量有嚴(yán)格要求。()
當(dāng)反應(yīng)加熱爐引風(fēng)機(jī)停運(yùn)后會(huì)聯(lián)鎖停運(yùn)鼓風(fēng)機(jī)。()
預(yù)硫化期間如發(fā)生故障而中止了硫化,重新開(kāi)始時(shí)必須恢復(fù)到中止前的狀態(tài)進(jìn)行。()
采用串級(jí)調(diào)節(jié)回路,有利于克服來(lái)自主回路的干擾。()
進(jìn)油時(shí)各塔液位不應(yīng)滿塔或過(guò)低,一般控制在60~80為宜。()
低壓分離器的壓力控制回路的設(shè)定值要低于分餾系統(tǒng)硫化氫汽提塔的控制壓力。()
低壓分離器的低分氣除外排酸性氣回收系統(tǒng)外,還可以直接排大氣。()
為了避免產(chǎn)生高的溫差應(yīng)力,應(yīng)嚴(yán)格控制任何兩個(gè)表面熱電偶之間的溫度差。()
更高的催化劑裝填密度有利于降低反應(yīng)空速。()