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問(wèn)答題

【簡(jiǎn)答題】簡(jiǎn)述HPCVD工藝的五個(gè)步驟

答案：（1）離子誘導(dǎo)淀積：指離子被托出等離子體并淀積形成間隙填充的現(xiàn)象
（2）濺射刻蝕：具有一定能量的Ar和因?yàn)楣杵?..

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（2）光分解：利用輻射使化合物的化學(xué)鍵斷裂分解
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答案：
（1）晶核形成，成束的穩(wěn)定小晶核形成
（2）聚集成束，也稱(chēng)為島生長(zhǎng)
（3）形成連續(xù)的膜

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