A.靶區(qū)劑量均勻性
B.旋轉(zhuǎn)速率
C.出射劑量率
D.旋轉(zhuǎn)常數(shù)Rc
E.旋轉(zhuǎn)時間
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A.劑量均勻性好
B.無冷點(diǎn)存在
C.無熱點(diǎn)存在
D.深部正常組織劑量低
E.以上各項
A.適合于治療面積較大的病變
B.適合于體表面平坦的淺表病變
C.解決了多個相鄰野照射時劑量分布曲線失真的影響
D.解決了斜入射時劑量熱點(diǎn)/冷點(diǎn)的劑量差異
E.在治療區(qū)域內(nèi)可以得到均勻的劑量分布
A.1-2
B.1-3
C.1-4
D.2-3
E.2-4
A.加速器射野較大
B.加速器需要均整板
C.鈷60需要補(bǔ)償板
D.二者都不需要組織間擋塊
E.加速器的劑量率不可調(diào)
A.同一深度處,射野中心軸上的劑量接近最高
B.在射野邊緣附近,劑量隨離軸距離增加而逐漸減少
C.由幾何半影、準(zhǔn)直器漏射和側(cè)向散射引起的射野邊緣的劑量漸變區(qū)稱為有效半影
D.射野幾何邊緣以外的半影區(qū)的劑量主要由準(zhǔn)直器散射線造成
E.準(zhǔn)直范圍外較遠(yuǎn)的劑量由機(jī)散射線引起
最新試題
隨能量增大,光電效應(yīng)發(fā)生的概率迅速減小。
百分深度劑量受照射野面積的影響。
兩種不同深度處的百分深度劑量比值稱為射線質(zhì)指數(shù)或能量指數(shù)。
巴黎系統(tǒng)規(guī)定臨床靶區(qū)的厚度T大于1.2cm 時,應(yīng)采用雙平面插植。
α/β不僅代表了細(xì)胞存活曲線的曲度,也代表了細(xì)胞對亞致死損傷的修復(fù)能力。
影響靶點(diǎn)位置精確度的因素包括機(jī)械精度,定位精度和擺位精度。
帶電粒子入射到物體時,沒有確定的射程。
對重離子,線性碰撞本領(lǐng)是選擇組織替代材料的首要條件。
巴黎系統(tǒng)的插植規(guī)定所有的放射源的線比釋動能率相等。
對鈷60機(jī)射野的對稱性和平坦度的檢查應(yīng)每月一次。