1887年，Hertz建立了XPS技術(shù)的理論模型。

在熱分析技術(shù)中，利用程序溫控裝置，可以升溫、降溫，但不能測定材料在恒溫過程中發(fā)生的變化。

每種晶體物質(zhì)都有自己特定的晶體結(jié)構(gòu)，晶體結(jié)構(gòu)不同則X射線衍射花樣也就各不相同。

根據(jù)衍襯運動學(xué)原理，理想晶體衍射強度隨（）而變化。

電子束與固體樣品作用時，會產(chǎn)生背散射電子。背反射電子的產(chǎn)額隨樣品（）的增加而增多。

掃描電鏡的背散射電子像中，圖像上亮區(qū)對應(yīng)區(qū)域的原子序數(shù)（）暗區(qū)對應(yīng)區(qū)域的原子序數(shù)。

與光鏡呈像相比，掃描電鏡圖像立體感強，形態(tài)逼真，這是由于掃描電鏡的（）比光鏡大100-500倍。

熱分析中對樣品的重量沒有要求，只要樣品尺寸能放進坩堝內(nèi)，就可以獲得良好的測試結(jié)果。

熱分析技術(shù)中，試樣用量越多，熱效應(yīng)大，內(nèi)部傳熱慢，溫度梯度大，導(dǎo)致峰形擴大，峰頂溫度滯后，容易使相鄰峰重疊，降低分辨率。

在電子探針面分析中，根據(jù)圖像上亮點的疏密和分布，可確定該元素在試樣中分布情況，亮區(qū)代表元素含量（）。