問(wèn)答題BiCMOS使用了哪兩種集成電路技術(shù)？
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1.問(wèn)答題MOSFET有哪兩種類型，他們?cè)鯓訁^(qū)分？
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3.問(wèn)答題場(chǎng)效應(yīng)管有什么優(yōu)點(diǎn)？
4.問(wèn)答題雙極技術(shù)有什么顯著特征，雙極技術(shù)的最大缺陷是什么？
5.問(wèn)答題什么是無(wú)源元件，舉出兩個(gè)無(wú)源元件的例子。
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互連工藝中AL的制備可選用（）。
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進(jìn)行溝槽填充常用的金屬材料是（）。
題型：?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
當(dāng)許多損傷區(qū)連在一起時(shí)就會(huì)形成連續(xù)的非晶層，開(kāi)始形成連續(xù)非晶層的注入劑量稱為（）。
題型：?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
目前制備SOI材料的主流技術(shù)有幾種？（）
題型：?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
碳納米管場(chǎng)效應(yīng)晶體管是未來(lái)晶體管發(fā)展趨勢(shì)之一。
題型：判斷題
鳥(niǎo)嘴效應(yīng)造成的不良影響有（）。
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多層陶瓷基板多層化的方法包括（）。
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進(jìn)行光刻工藝前的清洗步驟是（）。
題型：?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
消除鳥(niǎo)嘴效應(yīng)的方法有（）。
題型：多項(xiàng)選擇題
光刻工藝對(duì)準(zhǔn)誤差包括（）。
題型：多項(xiàng)選擇題