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問(wèn)答題
【簡(jiǎn)答題】離子注入的主要缺點(diǎn)是什么？如何克服？
答案：
1、高能雜質(zhì)離子轟擊硅原子將對(duì)晶體結(jié)構(gòu)產(chǎn)生損傷。（高溫退火進(jìn)行修復(fù)）。
2、注入設(shè)備的復(fù)雜性。（被注入機(jī)對(duì)劑量...
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問(wèn)答題
【簡(jiǎn)答題】列舉離子注人優(yōu)于擴(kuò)散的7點(diǎn)。
答案：
1.精確控制雜質(zhì)含量。
2.很好的雜質(zhì)均勻性。
3.對(duì)雜質(zhì)穿透深度有很好的控制。
4.產(chǎn)生...
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3.對(duì)雜質(zhì)穿透深度有很好的控制。
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