A.組織填充物
B.組織補(bǔ)償器
C.楔形濾過(guò)板
D.石蠟
E.托架
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A.電離室法
B.膠片劑量?jī)x法
C.化學(xué)劑量計(jì)法
D.水模體測(cè)量法
E.半導(dǎo)體劑量?jī)x法
A.深度
B.射線能量
C.射線劑量率
D.照射野大小
E.源皮距離
A.X射線系統(tǒng)
B.劑量學(xué)系統(tǒng)
C.機(jī)械系統(tǒng)
D.光學(xué)系統(tǒng)
E.成像系統(tǒng)
A.通過(guò)韌致輻射轉(zhuǎn)移給物質(zhì)
B.特征輻射損失能量
C.通過(guò)相互作用將能量轉(zhuǎn)移給次級(jí)電子
D.帶電粒子的衰變轉(zhuǎn)移能量
E.次級(jí)電子通過(guò)原子激發(fā)或電離將能量轉(zhuǎn)移給介質(zhì)
A.桿效應(yīng)
B.飽和性
C.復(fù)合效應(yīng)
D.靈敏度
E.方向性
最新試題
伽瑪?shù)栋悬c(diǎn)位置精度高于X射線立體定向治療系統(tǒng)的精度。
對(duì)鈷60機(jī)射野的對(duì)稱(chēng)性和平坦度的檢查應(yīng)每月一次。
巴黎系統(tǒng)規(guī)定臨床靶區(qū)的厚度T大于1.2cm 時(shí)，應(yīng)采用雙平面插植。
質(zhì)量保證和質(zhì)量控制的簡(jiǎn)稱(chēng)分別為QA、QC。
兩種不同深度處的百分深度劑量比值稱(chēng)為射線質(zhì)指數(shù)或能量指數(shù)。
低LET射線的RBE值（）1.0，高LET射線的RBE值（）2.0。
直線加速器使用的射野最大為（）。
電磁掃描調(diào)強(qiáng)不僅具有X 射線光子的利用率高、治療時(shí)間短的優(yōu)點(diǎn)，而且可實(shí)現(xiàn)電子束、質(zhì)子束的調(diào)強(qiáng)治療。
影響靶點(diǎn)位置精確度的因素包括機(jī)械精度，定位精度和擺位精度。
組織最大劑量比TMR 和源皮距的關(guān)系是（）。