填空題入射離子的兩種能量損失模型為：核碰撞和（）碰撞。
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1.填空題負膠適于刻蝕（）（細/粗）線條。
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下面選項屬于主擴散的作用有（）。
1.調節(jié)表面濃度
2.控制進入硅表面內部的雜質總量
3.控制結深
A.1
B.2
C.3
D.1、3
5.單項選擇題
不論正膠或負膠，光刻過程中都包括如下步驟：
1.刻蝕
2.前烘
3..顯影
4.去膠
5.涂膠
6.曝光
7.堅膜
以下選項排列正確的是：（）。
A.2561437
B.5263471
C.5263741
D.5263714。
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