某超聲波探頭，壓電晶片的頻率常數(shù)Nt=1500m/s晶片厚度為0.3mm，則該探頭工作頻率為（）

射線照片上細(xì)節(jié)影像的可識(shí)別性主要決定于（）

光電效應(yīng)發(fā)生的機(jī)率隨什么變化（）

二次波檢測(cè)是一種特殊的檢測(cè)工藝，以下關(guān)于二次波檢測(cè)的做敘述，哪一條是錯(cuò)誤的（）

使用變型波檢測(cè)的一個(gè)優(yōu)點(diǎn)是（）

一個(gè)均勻的輻射光束強(qiáng)度為I0的射線，穿過一個(gè)厚度為X的物質(zhì)，其強(qiáng)度降低量為I，可用I=-μI0X表示，μ為比例常數(shù)，此式代表什么現(xiàn)象（）

以下耦合劑中，可用于粗糙表面檢測(cè)的是（）

底片清晰度與增感屏顆粒度的關(guān)系是（）

一般認(rèn)為表面波探測(cè)的有效深度約為（）

最容易發(fā)生光電效應(yīng)的射線能量為（）