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問(wèn)答題
【簡(jiǎn)答題】什么是駐波效應(yīng)？如何減小駐波效應(yīng)
答案：
駐波效應(yīng)：當(dāng)曝光的光纖從光刻膠與襯底的界面反射時(shí)，會(huì)與入射的曝光光線產(chǎn)生干涉，會(huì)使曝光過(guò)度和不足的區(qū)域形成條紋狀結(jié)構(gòu)。<...
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問(wèn)答題
【簡(jiǎn)答題】解釋硬烘烤的目的。光刻膠硬烘烤過(guò)度和不足會(huì)產(chǎn)生什么問(wèn)題？
答案：
目的：除去光刻膠內(nèi)的殘余溶劑、增加光刻膠的強(qiáng)度，并通過(guò)進(jìn)一步的聚合作用改進(jìn)光刻膠的刻蝕與離子注入的抵抗力。增強(qiáng)了光刻膠的...
問(wèn)答題
【簡(jiǎn)答題】解釋曝光后烘烤的目的。PEB（曝光后烘烤）烘烤過(guò)度和不足會(huì)產(chǎn)生什么問(wèn)題？
答案：
目的：降低駐波效應(yīng)
不足：無(wú)法消除駐波效應(yīng)，影響分辨率。
過(guò)度：造成光刻膠的聚合作用，影響顯影過(guò)程，導(dǎo)致圖形轉(zhuǎn)移失敗。
