單項(xiàng)選擇題光刻技術(shù)中的反刻工藝，通常應(yīng)用于（）的情況。
A.對(duì)光刻精度較高
B.光刻圖案密度較高
C.光刻的材料易于腐蝕
D.光刻的材料難以腐蝕
您可能感興趣的試卷
最新試題
MOS管是一種電流型半導(dǎo)體器件，BJT是一種電壓型半導(dǎo)體器件。
題型：判斷題
TEM觀測(cè)與SEM相同，對(duì)樣品厚度沒(méi)有要求。
題型：判斷題
AlAs的禁帶寬度比GaAs大，晶格常數(shù)也更大。
題型：判斷題
在CMOS工藝中，最為昂貴的步驟是：（）
題型：?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
敏化劑
題型：名詞解釋
所謂n溝道MOS管指的是它的基底是n型半導(dǎo)體。
題型：判斷題
非本征光電導(dǎo)
題型：名詞解釋
磁滯回線
題型：名詞解釋
等離子體
題型：名詞解釋
平衡態(tài)下在pn結(jié)中p區(qū)和n區(qū)的費(fèi)米能級(jí)是相等的。
題型：判斷題