微電子學(xué)判斷題每日一練(2020.03.15)

來源：考試資料網(wǎng)

1.判斷題如果光刻膠在曝光前可溶于某種溶液而經(jīng)過曝光后不可溶，則這種光刻膠為正膠。

參考答案：錯(cuò)誤

2.判斷題用來制造MOS器件最常用的是（100）面的硅片，這是因?yàn)椋?00）面的表面狀態(tài)更有利于控制MOS器件開態(tài)和關(guān)態(tài)所要求的閾值電壓。

參考答案：正確

3.判斷題化學(xué)機(jī)械拋光（CMP）帶來的一個(gè)顯著的質(zhì)量問題是表面微擦痕。小而難以發(fā)現(xiàn)的微擦痕導(dǎo)致淀積的金屬中存在隱藏區(qū)，可能引起同一層金屬之間的斷路。

參考答案：正確

4.判斷題常用的IC設(shè)計(jì)方法有全定制設(shè)計(jì)方法、標(biāo)準(zhǔn)單元設(shè)計(jì)方法、門陣列設(shè)計(jì)方法和可編程邏輯電路設(shè)計(jì)方法等。對(duì)于性能要求很高或批量很大的產(chǎn)品，如存儲(chǔ)器、微處理器等，一般采用可編程邏輯電路設(shè)計(jì)方法。

參考答案：錯(cuò)誤

5.判斷題EDA是計(jì)算機(jī)輔助測(cè)試的英文簡(jiǎn)稱。

參考答案：錯(cuò)誤