碳納米管場效應(yīng)晶體管是未來晶體管發(fā)展趨勢之一。

如下哪個選項不是半導(dǎo)體器件制備過程中的主要污染物？（）

金屬化中可選用的金屬材料有（）。

刻蝕工藝可以和以下哪個工藝結(jié)合來實現(xiàn)圖形的轉(zhuǎn)移？（）

光刻工藝的設(shè)備核心是（）。

常壓的硅外延方法有（）。

消除鳥嘴效應(yīng)的方法有（）。

摻雜后，退火的目的是（）。

CE定律發(fā)展面臨的問題包括（）。

摻雜后退火時間一般在（）。