集成電路技術(shù)綜合練習(xí)章節(jié)練習(xí)(2019.04.30)

來源：考試資料網(wǎng)
參考答案：

互聯(lián)線、電阻、電容、電感、傳輸線等

參考答案：

甩膠、曝光、顯影、刻蝕、去膠。

參考答案：引起溝道區(qū)產(chǎn)生強(qiáng)表面反型的最小柵電壓，稱為閾值電壓VT。往往用離子注入技術(shù)改變溝道區(qū)的摻雜濃度，從而改變閾值電壓。夾斷電...
參考答案：

某些工藝參數(shù)的梯度沿水平方向或者垂直方向是線性的

參考答案：

硅、砷化鎵、磷化銦

參考答案：

負(fù)光刻膠：膠的曝光區(qū)在顯影中保留，未曝光區(qū)在顯影中除去，負(fù)膠多由長鏈高分子有機(jī)物組成

參考答案：

刻蝕即光刻腐蝕，就是通過光刻將光刻膠進(jìn)行光刻曝光處理，然后通過其他方式實現(xiàn)腐蝕以處理掉所需除去的部分。

參考答案：

1、底膜處理
2、涂膠
3、前烘
4、曝光
5、顯影
6、堅膜
7、刻蝕去膠

參考答案：

雙光干涉法、比色法