微電子學章節(jié)練習(2019.11.15)
來源：考試資料網(wǎng)
參考答案：（1）鑒別工藝問題：硅片制造過程中工藝問題的早期鑒定
（2）通過/失效標準：決定硅片是否繼續(xù)后面的制造程序 參考答案：
化學吸附：襯底表面的原子與吸附的源材料的分子內(nèi)的原子形成化學鍵；
物理吸附：吸附在源材料的表面
參考答案：目的是為涂膠的硅片上正確地復制掩膜圖形。 參考答案：
A.保護芯片以免由環(huán)境和傳遞引起損壞
B.為芯片的信號輸入和輸出提供互連
C.芯片的物理支撐
D.散熱
參考答案：1.極紫外光刻技術(shù)（EUV）
2.離子束投影光刻技術(shù)（IPL）
3.角度限制投影電子束光刻技術(shù)（SC... 參考答案：①通過摻雜濃度精確控制電阻率
②通過摻雜元素的選擇控制導電類型（電子N型或空穴P型導電）
摻雜半導體...
