微電子學(xué)章節(jié)練習(xí)(2019.12.11)

來源：考試資料網(wǎng)

1.問答題設(shè)計一個實驗：先將一塊本征半導(dǎo)體變成N型半導(dǎo)體，然后再設(shè)法使它變成P型半導(dǎo)體。

2.問答題什么是電路模擬？其在IC設(shè)計中的作用。

參考答案：根據(jù)電路的拓?fù)浣Y(jié)構(gòu)和元件參數(shù)將電路問題轉(zhuǎn)換成適當(dāng)?shù)臄?shù)學(xué)方程并求解，根據(jù)計算結(jié)果檢驗電路設(shè)計的正確性。
版圖設(shè)計...

3.問答題GaAs相對Si的優(yōu)點和缺點是什么？

參考答案：優(yōu)點：
A.比硅更高的電子遷移率，高頻微波信號響應(yīng)好——無線和高速數(shù)字通信
...

4.問答題列出光刻工藝的十個步驟，并簡述每一步的目的。

參考答案：①表面準(zhǔn)備：清潔和干燥晶圓表面
②涂光刻膠：在晶圓表面均勻涂抹一薄層光刻膠
③軟烘培：加熱，部分蒸發(fā)...

5.填空題（）是載流子在電場作用下運動速度的快慢的量度。

6.問答題列出光刻的8個步驟，并對每一步做出簡要解釋。

參考答案：1氣相成底膜：第一步是清洗、脫水和硅片表面成底膜處理。
2旋轉(zhuǎn)涂膠：完成底膜后，硅片要立即采用旋轉(zhuǎn)涂膜的方法涂...

7.問答題說明RCA清洗硅片的方法，SC-1和SC-2的配方特點

參考答案：SC-1去除有機殘余物，金屬
SC-2去除堿金屬離子，氫氧根。
根據(jù)不同的應(yīng)...

8.問答題簡述離子注入機的各部分工作原理？

參考答案：離子注入機主要由離子源、分析磁體、加速聚焦器、掃描偏轉(zhuǎn)系統(tǒng)、靶室及終端臺和真空系統(tǒng)6大部分組成。
1）離子源的...

9.填空題小注入條件是指注入某區(qū)邊界附近的（）濃度遠小于該區(qū)的（）濃度，因此該區(qū)總的多子濃度中的（）多子濃度可以忽略。

參考答案：非平衡少子；平衡多子；非平衡

10.填空題半導(dǎo)體的中，（）稱為費米能級；對本征半導(dǎo)體，費米能級位于（），表示（）。費米能級靠近導(dǎo)帶，表示（），是（）型半導(dǎo)體；費米能級靠近價帶，表示（），是（）型半導(dǎo)體。

參考答案：被電子占有的幾率為1/2的能級；禁帶中央；電子和空穴數(shù)相等；電子數(shù)多于空穴數(shù)；N；空穴數(shù)多于電子數(shù)；P