多項(xiàng)選擇題NIKON硅片對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)對(duì)對(duì)準(zhǔn)精度的影響較大,有三種對(duì)位方式()。

A.WGA
B.EGA
C.LSA
D.FIA


您可能感興趣的試卷

你可能感興趣的試題

1.多項(xiàng)選擇題對(duì)準(zhǔn)與曝光關(guān)鍵工藝參數(shù)()。

A.對(duì)準(zhǔn)OVERLAY
B.分辨率
C.焦深或景深

2.多項(xiàng)選擇題光刻工藝中影響分辨率的因素有()。

A.顯影液
B.曝光方式
C.光刻膠本身
D.光源

3.多項(xiàng)選擇題對(duì)光刻膠的需求包括()。

A.高分辨率
B.高抗蝕性
C.好黏附性
D.更寬的工藝容差

4.多項(xiàng)選擇題光刻膠通常有三種成分:()。

A.感光化合物
B.水
C.溶劑
D.基體材料

5.多項(xiàng)選擇題光刻工藝流程包含以下哪些步驟?()

A.前處理
B.勻膠及后烘
C.曝光
D.顯影及后檢

7.單項(xiàng)選擇題一廠PE和MPA的對(duì)套OVERLAY能力為()。

A.±0.5um
B.±1um
C.±1.5um
D.±2um