判斷題MPA為手動曝光設(shè)備,PE/UT/NIKON為自動曝光設(shè)備。

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6.多項(xiàng)選擇題對準(zhǔn)與曝光關(guān)鍵工藝參數(shù)()。

A.對準(zhǔn)OVERLAY
B.分辨率
C.焦深或景深

7.多項(xiàng)選擇題光刻工藝中影響分辨率的因素有()。

A.顯影液
B.曝光方式
C.光刻膠本身
D.光源

8.多項(xiàng)選擇題對光刻膠的需求包括()。

A.高分辨率
B.高抗蝕性
C.好黏附性
D.更寬的工藝容差

9.多項(xiàng)選擇題光刻膠通常有三種成分:()。

A.感光化合物
B.水
C.溶劑
D.基體材料

10.多項(xiàng)選擇題光刻工藝流程包含以下哪些步驟?()

A.前處理
B.勻膠及后烘
C.曝光
D.顯影及后檢